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Devant le jury :
Dr.MAHAMDI RamdaneProf.Université deBatnaPrésident Dr.BENHAYAAbdelhamidProf.Université deBatnaRapporteur Dr.TELIAAzzedineProf.Université deConstantineExaminateurDr.DIBI ZohirProf.Université deBatnaExaminateurDr.DJEFFAL FayçalProf.Université deBatnaExaminateur
ETUDE D'UNE CELLULE SOLAIRE
ABASE DESTRUCTURE PINSoutenue-le:10/03/2015
Mémoire
PrésentéPour l'obtention du diplôme de
MAGISTER EN ELECTRONIQUEOption:
Instrumentation
Présentépar
HOUDA CHABANE
Ingénieur d'état en Electronique
THEME :
République Algérienne Démocratique et Populaire Ministère de l'Enseignement Supérieur et de la RechercheScientifiqueUniversitéHadj Lakhdarde Batna
Facultéde Technologie
Département d'Electronique
2014 / 2015
ISOMMAIRE
SommaireI
RésuméV
RemerciementsVI
DédicacesVII
Liste des figuresVIII
Liste des tableauxIX
Liste des symbolesX
Introduction générale1
Chapitre1Les énergies renouvelables et matériaux photovoltaïques1.1. Introduction4
1.2. Utilisation de l'énergie solaire6
1.2.1. Utilisation passive de l'énergie solaire6
1.2.2. Utilisation active de l'énergie solaire6
1.2.3. La production d'électricité6
1.2.3.1. La conversion photovoltaïque6
1.2.3.2. La conversionthermodynamique7
1.3. Les composantes de la lumière solaire7
1.3.1.Le rayonnement direct8
1.3.2.Le rayonnement diffus8
1.3.3.Le rayonnement dû à l'albédo8
1.4.Le spectre solaire9
1.5. L'intensité du rayonnement10
1.6. Notionde laMassed'air10
1.7. Matériaux photovoltaïques11
1.7.1.La bande interdite11
1.7.2. Interaction rayonnement/ matière13
1.7.2.1.Transitions radiatives13
1.7.2.1.1.Absorption13
1.7.2.1.2.Emission spontanée13
1.7.2.1.3.Emission stimulée13
1.7.2.2. Transition directe14
1.7.2.3.Transition indirecte14
1.7.3. La recombinaison14
1.7.3.1.Recombinaison des porteurs en excès14
1.7.3.2.Mécanismes de recombinaisons15
1.7.3.3.Vitesse de recombinaison en surface15
1.7.4. Création deporteurs en excès16
1.7.4.1.Création de porteurs en excès par Photoexcitation16
1.7.4.2.Création de porteurs en excès par Injection électrique19
1.7.4.3.Création de porteurs en excès par d'Autres processus20
1.8. Conclusion20
Chapitre2Les cellules photovoltaïques
2.1.Introduction21
2.2. L'Effet Photovoltaïque21
2.2.1. Les avantages du photovoltaïque21
II2.2.2.Principe de la conversionphotovoltaïque22
2.3. La cellule solaire23
2.3.1.Principe de fonctionnementd'une cellule solaire23
2.3.1.1.L'Absorption des photons23
2.3.1.2.La Création de paires électrons/trous24
2.3.1.3.LaCollecte24
2.3.2. Modes de fonctionnement25
2.3.2.1. Le mode photoconducteur25
2.3.2.2. Le mode photovoltaïque25
2.4. LaCaractérisation électriques25
2.4.1. La caractéristique courant tension26
2.4.2.Le photocourant27
2.4.2.a)Le courant dans la région quasi-neutre N27
2.4.2.b)Le courant dans la région quasi-neutre P27
2.4.2.c)Le courant dans la région dedéplétion27
2.4.2.d)Le photocourant total28
2.4.3.Le courant d'obscurité28
2.4.3.a)Le courant d'obscurité total28
2.4.3.b)Le courant d'injection (diffusion)28
2.4.3.c)Le courant de recombinaison29
2.4.3.d)Le courant tunnel29
2.4.4. Laréponse spectrale29
2.5.Paramètres d'une cellule solaire30
2.5.1. Paramètres physiques30
2.5.2.Paramètres photovoltaïques31
2.6.Circuit équivalent d'une cellule solaire34
2.6.1.Le modèle idéal34
2.6.2.Le modèle réel34
2.7.Différentesstructures de cellules solaires35
2.7.1. La structure à jonction PN35
2.7.2. La structure Schottky35
2.7.3. La structure MIS35
2.7.4. La structure à jonction PIN36
2.7.4. Structure à avalanche36
2.8. Différentes couches d'une cellule solaire àjonction PN37
2.8.1. Texturation de surface37
2.8.2. Couche anti-reflet37
2.8.3. La Couche BSF38
2.8.4. Les Contacts face avant et arrière38
2.9. Conclusion39
Chapitre3La cellule solaire à structure PIN
3.1.Introduction40
3.2. La structure PIN de base40
3.3. Principe de fonctionnement de la cellule solaire à structure PIN41
3.4.Types de structure PIN42
3.4.1. Selon le dopage de la zone intrinsèque42
3.4.2.Selon la technologie de fabrication43
III3.4.2.1.Les cellules solaires à jonction PIN à silicium amorphe43
3.4.2.2.Les cellules solaires à jonction PIN à silicium microcristallin (mc-Si)45
3.4.2.3.Cellules solaires PIN organiques46
3.4.2.4.Cellules PIN sur nanofils de Si48
3.5. Laphysique de la jonction PIN49
3.5.1. La jonction PIN à l'équilibre thermique49
3.5.1.1. La barrière de potentiel49
3.5.1.2.Le comportement en inverse d'une jonction PIN50
3.5.1.5.Le courant de fuite51
3.5.1.6.La capacité de zone déserte52
3.5.1.7. Latension d'avalanche53
3.5.2. Le comportement en direct54
3.5.2.1. Bas niveau54
3.5.2.2. Profils n(x) et p(x) dans la zone I55
3.5.2.3. Calcul de la caractéristique J(V)56
3.5.2.4. Calcul de57
3.5.2.5. temps de transit des trous58
3.5.2.6. Equation de diffusion ambipolaire58
3.6. Caractéristique de la cellule solaire à structure PIN59
3.6. 1. Caractéristique I(V)Enobscurité59
3.6. 2. Caractéristique I(V)d'une cellule PINilluminée59
3.7. les avantages des jonctionsPIN59
3.8. Conclusion60
Chapitre4Simulation et résultats
4.1. Introduction61
4.2. Présentation d'Atlas61
4.3. Les commandes d'Atlas62
4.4. Spécification de la structure62
4.4.1. Présentation de la structure62
4.4.1.1. Mesh63
4.4.1.2. Region64
4.4.1.3. Electrodes64
4.4.1.4. Doping65
4.4.2. Spécification des modèles des matériaux65
4.4.2.1. Material65
4.4.2.2. Models66
4.4.2.3. Beam66
4.4.3. Sélection de la méthode numérique66
4.4.4.Spécification des solutions66
4.5.Etapesde simulation67
4.6. Présentation des résultats68
4.6.1.CourbeI(V) typede la cellule PN68
4.6.1.1.Courbe de puissance de la cellule PN70
4.6.1.2. I(V) en fonction de l'intensité lumineuse71
4.6.2.Courbe I(V) type de la cellule PIN71
4.6.2.1. Effet de l'irradiance sur la caractéristique I(V) de la cellule solaire PIN73
4.6.2.2.Comparaisonentre I(V)des cellules PN et PIN74
IV4.6.3.L'effet de l'épaisseur de la couche intrinsèque sur lesparamètres de la cellule75
4.6.3.1.L'effet de l'épaisseur de la zone intrinsèquesur le rendement de la cellule PIN75
4.6.3.2. L'effet de l'épaisseur de la zone intrinsèquesur I(V) de la cellule PIN76
4.6.4. L'effet de l'émetteursur lesparamètres de la cellule PIN77
4.6.4. 1.L'effet de la Variation du dopage de l'émetteur77
4.6.4.2. L'effet de la Variation de l'épaisseur de l'émetteur78
4.6.5. L'effet de la température79
4.6.6. L'effet de la couche anti réflexion80
4.6.7.La réponse spectrale82
4.6.7.1. La réponse spectrale en fonction de l'épaisseur de la zone I82
4.6.7.2. Comparaison83
4.8. Conclusion84
Conclusion générale85
Bibliographie87
Annexe90
VRésumé
La cellule solaire en silicium cristallinest restéele leader du marché des cellules solairespour le dernier demisiècle. Malgrédes années de recherche d'autresmatériaux, cettetechnologie
(c-Si)est toujours dominanteà plus de 80% des ventes au niveau mondial.Le rendement de lacellule solaire dépend des photons absorbés et des paires électrons-trous générés dans la zone de
charge d'espace, qui doit avoir une valeur optimale pour que le photocourant soit essentiellement dû à la photogénération de porteurs dans cette zone. Il est donc judicieux d'augmenterartificiellement l'épaisseur de la zone de charge d'espace enintercalantune couche intrinsèqueI
entre P et N, ce qui donne une cellule solaire à base d'une structure PIN. Dans ce contexte, nous avons étudiéscette cellulepar la simulation numérique à deux dimensions sous éclairement avec un spectre AM1.5 effectuées sous SILVACO/ATLAS.Ona définitune cellulePNde référence avec un ensemble de paramètres physiques,onaanalysé leurs influences sur le rendement de conversion.Ensuite,onaintercaléune couche intrinsèque Ientre les deux régions N et P, pour obtenir une cellule à structure PINqu'on a étudié à l'aide du
logiciel TCA-Silvaco pour déterminer l'influence de différents paramètres, tels que le dopage de
l'émetteur, la température, l'intensité du flux lumineux, l'épaisseur de la zone intrinsèque I et la
couche antireflet, sur le rendement de conversion.Summary
Crystalline silicon solar cell remained the market leader for the last half century. Despite years of research of other materials, this technology (c-Si) is always dominant over 80% of worldwide sales. The efficiency of the solar cell dependson the absorbed photons and the electron-hole pairs generated in the space charge region, the thickness of which has to be wellchosen so that the photocurrent is essentially due to the photogénération of carriers in this region.
It is therefore wise to artificially increase the thickness of the space charge region by interposing
an intrinsic layer I between the regions P and N, to obtain a PIN solar cell. In this context, we studied the operation of this cell by numerical simulation in two dimensions under illumination with an AM1.5 spectrum performed under SILVACO / ATLAS. We define a reference PN cell with a set of physical parameters, analyzing their influence on the conversion efficiency. Then, an intrinsic layer I is inserted between N and P regions,to obtain a PIN solar studied by the help of TCA-Silvaco to determine the effect of different parameterssuch as the doping of the emitter, the temperature, the intensity of the irradiance, the thickness of
the intrinsic region, the nature and the thickness of the antireflective layer. VIRemerciements
Je remercie en premier lieunotreDieu le tout puissant de m'avoir accordé la volonté et la puissance pour terminer ce travail. Je remercie MonsieurMahamdi Ramdane, Professeur au département d'Electronique,Université Hadj Lakhdar deBatna, pour l'intérêt qu'il a porté à mon travail et de m'avoir fait
l'honneur de présider le jury de soutenance. Mes remerciements à Monsieur Benhaya Abdelhamid, Professeur au département d'Electronique, Université Hadj Lakhdar de Batna, pour avoir encadré mon travail. Mes remerciements à Monsieur Telia Azzeddine, Professeur au départementd'Electronique, Université Mentouri de Constantine, de m'avoir honoré par sa présence au jury
en tant qu'examinateur. Mes remerciements à Monsieur Dibi Zohir, Professeur au département d'Electronique, Université Hadj Lakhdar de Batna, de m'avoir honoré par sa présence au jury en tant qu'examinateur. Il m'est agréable d'exprimer ma profonde reconnaissance à Monsieur Djeffal Faiçal, Professeur au département d'Electronique, Université Hadj Lakhdar de Batna, de m'avoir honoré par sa présence au jury en tant qu'examinateur et pour son orientation et ses conseils. Je tiens à remercier Monsieur Mokhtari, le chef du département de l'électronique,Université Hadj Lakhdar deBatna, pour avoir été très compréhensif et coopératif pour que je
puisse avancer dans mes études et mon mémoire de magister. Un grand merci pour les étudiants de magister qui ont été d'une grande aide dans la programmationavecSilvaco Atlas, surtout Mr. Ferhati Hichem. Mes derniers remerciements vont à ma famille, mes amies et les collègues de travail qui m'ont encouragé et donné la force de passer les moments difficiles. VIIDEDICACES
A mes très chers parents qui m'onttoujourssoutenu dans les bonset les mauvais moments de ma vie, Amon petit soleil, à montrès cherfils Moumene Abderrahmane, A ma très chère s-ur qui a toujours été là pour m'encourager, A mes chères nièces: Ilhem, Amina et Yasmine, A mes très chersfrères et à ma belle s-ur,Atoutesmes amies et cousines,
A tousles professeurs quim'ont enseignédurant toutes les étapes scolaires de ma vie, un grandmerci. VIIILISTE DES FIGURES
NuméroLe titrePage
Fig 1.1L'énergie incidente à la surface de la terre en kWh/m² par an4 Fig 1.2-aLa centrale solaire en Californie (SEGS-Kramer Junction).5Fig 1.2-bLa centrale solaire de Ghana5
Fig 1.2-cLa centralesolaire de Kagoshima-JAPAN5
Fig 1.3.aSystèmes solaire à concentration7
Fig 1.3.bSystème solaire avec moteur stirling7
Fig 1.4Les 3 différents types de rayonnement solaire8Fig1.5Le spectre solaire9
Fig1.6l'énergie solaire en fonction deslongueurs d'ondes9 Fig1.7.aL'irradiance en fonction des longueurs d'ondes10 Fig1.7.bL'irradiance en fonction des l'énergie10Fig1.7.cL'Air Mass11
Fig1.8Les rayonnements et semiconducteurs12
Fig1.9Courbes de dispersion. a) Electrons dans unsemiconducteur à gap direct. b) Electrons dans un semiconducteur à gap indirect. 13Fig1.10Mecanismes de recombinaisons15
Fig1.11La photoexcitation17
Fig1.12La photogénération et taux de génération en fonction du gap18 Fig1.13Taux l'absorptionde photon dans un semiconducteur19Fig 2.1Structure de base d'une cellule solaire23
Fig 2.2a)photogéneration dans la cellule solaire b) diagramme d'énergie24 Fig 2.3La courbe caractéristique courant tension d'une cellule solaire26 Fig 2.4Caractéristique I-V dans le nouveau repère.26Fig 2.5Dimensions de la cellule solaire28
Fig 2.6La Réponse Spectrale d'une cellule solaire30 Fig 2.7Caractéristiques I(V) et paramètres Icc,Voc31Fig 2.8Rendement fonction de gap33
Fig 2.9Schéma électrique équivalent d'une cellule solaire idéale34 Fig 2.10Schéma électrique équivalent d'une cellule solaire réelle34 Fig 2.11I(V) pour plusieurs valeurs de la résistance série37 Fig 2.12La structure d'une cellule photovoltaïque standard38Fig 3.1Structure de base d'une cellule solaire pin a) entrée de lumière top b) entrée de coté41
Fig 3.2Principe de fonctionnement d'une cellule solaire à structure PIN41 Fig 3.3Possibilitées de dopage de la zone intrinsèque42Fig 3.4CellulePIN monojonction43
Fig 3.5Cellules solaires à jonction PIN à silicium amorphe a)double jonction b) triple jonction 44Fig 3.6Cellules solaires à jonction PIN à silicium microcristallin (mc-Si)45 Fig3.7Structure de la cellule ensilicium " couche mince ».45
Fig 3.8Cellule HIT46
Fig 3.9Structure de type jonction pin organique à couche mince d'une cellule solaire47Fig 3.10Cellules PIN sur nanofils de Sillicium.48
b) le profil champ pour jonction PN f) pour une jonction PIN c) le profil potentiel électrostatique pour PN g) pour une jonction PIN d) diagramme de bandes pour PN h) pour une jonction PIN 50Fig 3.12(a) : Vue en coupe d'une diode semi-infinie PiN sous polarisation inverse,50 (b) :Profil du champ dans une diode PIN Fig3.13Tension de claquage en fonction de la concentration de dopants et de l'épaisseur de la zone intrinsèquepour Si 51
IX
LISTE DES TABLEAUX
NuméroLe titrePage
Tableau1.1Bande interdite de quelque semiconducteurs12 Tableau3.1Matériaux et gap et ondes absorbées par les structures PIN44Tableau4.1 66
Tableau4.2paramètres de la cellule de référence utilisés68 Tableau4.3Paramètressimulésd'une cellule conventionnelle70 Tableau4.4Paramètres simulés de la cellule à structure PIN73Tableau4.5l'effet de l'épaisseur W de la couche intrinsèque sur Paramètres une cellule PIN75
Tableau4.6L'effet de la Température sur les paramètres de la cellule PIN79Tableau4.7L'effet de la nature de lacoucheanti-réfléchissante sur lesparamètres de la cellule PIN80
Tableau4.8L'effet de l'épaisseur de lacoucheanti-réfléchissante sur les paramètres de la cellule PIN81
Fig3.14Zones déplétées dans la diode à l'équilibre thermodynamique52 Fig3.15schéma équivalent de la diode PIN à l'équilibre52Fig3.16Zones déplétées dans la diode pour une tension inverse appliquée supérieure à la tension
de perçage etschéma équivalent correspondant 53Fig 3.17Les tensions de la jonction PIN54
Fig 3.18a:diodes PIN courtes
b: diodes PIN longues 55fig 3.19La barrière de potentiel dans les diodes60
Fig 4.1Entrées et sorties d'Atlas61
Fig 4.2Groupe deCommandes de Silvaco ATLAS62
Fig 4.3Structure de la cellule solaire à jonction PN conventionnelle en silicium63Fig 4.4Définition du maillage avec ATLAS63
Fig 4.5Définition des régions avecATLAS64
Fig 4.6Les Electrodes Réalisées64
Fig 4.7Dopage effectuée de la structure65
Fig 4.8Caractéristique I(V) de la cellule solaire conventionnelle69Fig 4.9Courbe de puissance de la cellule PN69
Fig4.10Caractéristique I(V) de la cellulePNen fonction de l'intensité lumineuse71Fig4.11lastructure de la cellule PIN71
Fig 4.12Caractéristique I(V) de la cellule PIN72Fig 4.13Courbe de puissance de la cellule PIN72
Fig 4.14Caractéristique I(V) de la cellule PIN en fonction de l'intensité lumineuse73 Fig 4.15Comparaison des I(V)des cellules PN et PIN a-en obscurité b-en illumination74Fig 4.16L'effet de l'épaisseur de la zone intrinsèquea-sur le rendement, b-sur le courant ICC75
Fig 4.17L'effet de l'épaisseur de la zone intrinsèquela caractéristique I(V) de lacellule PIN76
Fig 4.18L'effet du dopage de l'émetteursur la caractéristique I(V) de la cellule PIN77 Fig 4.19L'effet du dopage de l'émetteursur:a-le Icc de la cellule PINb-le rendement de la cellule PIN 78Fig 4.20L'effet de latempérature sur I(V)79
Fig 4.21L'effet de la CAR sur I(V)80
Fig 4.22L'effet de l'épaisseur de la CAR81
Fig 4.23La réponse spectrale de la cellule PIN pour Wi=0.1µm, 0.5µm, 1µm, 5µm,10µm.82
Fig 4.24Les réponses spectrales des cellules PN et PIN83 Fig 4.25Les réponses spectrales des cellules PN et PIN(différentes Wi)83 XListedessymboles
SymboleDescription
EEnergie.
()Champ électrique.ȟCChamp électriquecritique.
gLargeur de la bande interdite (gap). ![Densité de charges électriques. .Coefficient d'absorption *[Taux de génération des paires électron-trous. n, pConcentration des électrons et des trous respectivement. n0, p0Concentration des électrons et des trous à l'équilibre respectivement. jn , jpDensité de courantdes électrons et des trous respectivement.JrDensité de courant de saturation inverse.
JphDensité de courant de photo génération.JDensité de courant de sortie de la cellule.
JscCourant de court circuit.
Na ,NdConcentration des atomes accepteurs et des atomesdonneursrespectivement. Rn,Rp R0 Durée de vie des électrons et des tous respectivement.Durée de vie derecombinaison du porteur
ȝn ,ȝpMobilité des électrons et des trous respectivement. Dn ,DpConstante de diffusion des électrons et des trous respectivement. Ln , LpLongueur de diffusion des électrons et des trous respectivement.LcLongueur de collection effective.
Lin ,LipLongueur de diffusion effective des électrons et des trousrespectivement. Un ,UpTaux de recombinaison des électrons et des trous respectivement.T°Température de la cellule.
niConcentration intrinsèque. Sn ,SpVitesse de recombinaison des électrons et des tous à la surface respectivement.İ0,İr,İPermittivité du vide, permittivité relative et permittivité totale respectivement.
R()Coefficient de réflexion.
La longueur d'onded'un photonenȝ
La constante de Planck,
La vitesse de la lumière dans le vide
kLevecteur d'onde qLacharge de l'electron ࢥLe FluxlumineuxUt=KT/qPotentiel thermodynamique.
VdPotentiel de diffusion.
VTension de sortie de la cellule.
VocTension de circuit ouvert.
VjTensionextérieure appliquée
VmTensionmax
Tensionde diffusion de la jonction PI
XITensionde diffusion de la jonction IN
VBRTensiondeclaquage.
la chute de tension dans la zone I.ImCourant max
FFFacteur de forme.
()Réponse spectrale.Puissance maximale.
ORendement deconversion.
WPEpaisseur de la couche P.
WIEpaisseur de la couche I.
WNEpaisseur de la couche N.
HEpaisseur totale de la cellule
LLongueur de la cellule
SSurface de la cellule.
dCAREpaisseur de la couchediélectriqueRsRésistance série.
RshRésistance parallèle.
RLLa charge extérieure.
NaDensité des dopants accepteursionisésdans un matériau NdDensité des dopants donneursionisésdans un matériau NcDensitéd'état au bord de la bande de conduction. NvDensitéd'état au bord dela bande de valance.WPotentielélectrostatique
PinPuissanceincidente
L'angle derefraction
CjCapacité dejonction.
RDurée de vie ambipolaire.
LaLongueurde vie ambipolaire.
TpTemps de transit des trous à travers la zone intrinsèqueJTLadensité totale de courant dans la diode
Introduction générale
Introduction générale
1 Selon l'Agence Internationale de l'Energie, la consommation énergétique mondiale a quasiment doubléentre 1973 et 2007, en passant de 5.4x104à 9.6x104TWh par an. Plus de 15%de cetteénergie est aujourd'huiconsomméesous forme d'électricité. Au niveau mondial, plus de
80% de l'électricité est produiteàpartir de combustibles fossiles (67%) et fissiles (15%) non
renouvelables. A ce rythme de consommation, les réserves des combustibles fossiles serontquotesdbs_dbs29.pdfusesText_35[PDF] tp spé physique cellule photovoltaique
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